| 标准分类 Standards |
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| 中文名称：表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度. |
| 标准号:NF X21-070-2010 |
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| 标准号： |
NF X21-070-2010 |
| 英文名称： |
Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials. |
| 中标分类： |
0>>0 |
| 发布日期： |
2010-09-01 |
| 发布单位： |
FR-AFNOR |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2010-09-25 |
| ICS分类： |
物理化学分析方法>>物理化学分析方法 |
| 正文语言： |
其他 |
| 原文名称： |
Analyse chimique des surfaces. Spectrométrie de masse des ions secondaires. Dosage des atomes de bore dans le silicium ? l'aide de matériaux dopés uniformément |
| 页数： |
25P;A4 |
| 采用关系： |
ISO 14237-2010,IDT |
| 内容提要（EN）： |
Boron;Calibration;Chemical analysis and testing;Concentration values;Crystals;Determination of content;Doping agents;Finishes;Formulae (mathematics);Mass spectrometry;Quantitative analysis;Secondary-ion mass spectrometry;Silicon;Spectrometry |
| 归属： |
法国 |
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