| 标准号： |
JIS K1200-5-2000 |
| 英文名称： |
Sodium hydroxide for industrial use -- Part 5: Determination of silicon content -- Inductively coupled plasma atomic emission spectrochemical analysis |
| 中标分类： |
化工>>无机酸、碱 |
| 发布日期： |
2000-07-20 |
| 发布单位： |
JP-JISC |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| ICS分类： |
碱>>碱 |
| 起草单位/标准公告： |
Technical Committee on Chemical Analysis |
| 正文语言： |
日语 |
| 原文名称： |
コウギョウヨウスイサンカナトリウム―ダイ５ブ：ケイソガンユウリョウノモトメカタ―コウシュウハユウドウケツゴウプラズマハッコウブンコウブンセキホウホウ |
| 页数： |
8P;A4 |
| 被代替标准： |
JIS K1200-1968 |
| 内容提要（CN）： |
硅;发射分光光度测定法;氢氧化钠 |
| 内容提要（EN）： |
sodium hydroxide;silicon;emission spectrophotometry |
| 归属： |
日本 |
