| 标准号： |
JIS K0160-2009 |
| 英文名称： |
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy |
| 中标分类： |
综合>>化学 |
| 发布日期： |
2009-07-20 |
| 发布单位： |
JP-JISC |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
化学分析>>化学分析 |
| 正文语言： |
日语 |
| 原文名称： |
ヒョウメンカガクブンセキ―シリコンウェーハヒョウメンカラノキンゾクノカガクテキカイシュウホウホウオヨビゼンハンシャケイコウＸセン（ＴＸＲＦ）ブンセキホウニヨルテイリョウホウホウ |
| 页数： |
24P;A4 |
| 引用标准： |
JIS B9920;JIS K0148;JIS Z8402-2 |
| 采用关系： |
ISO 17331-2004,IDT |
| 归属： |
日本 |
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