| 标准号： |
DIN 50453-2-1990 |
| 英文名称： |
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method |
| 中标分类： |
冶金>>元素半导体材料 |
| 发布日期： |
1990-10 |
| 发布单位： |
DE-DIN |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
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| 正文语言： |
德语 |
| 原文名称： |
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der ?tzrate von ?tzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren |
| 页数： |
2P.;A4 |
| 内容提要（CN）： |
试验;材料;二氧化硅;半导体工程;腐蚀混合物;腐蚀速度;快速方法;蚀刻;材料试验;光学测量;光学试验;半导体工艺;混合物 |
| 内容提要（EN）： |
optical tests;optical measurement;rapid method;semiconductor engineering;testing;materials testing;etching;etch mixtures;etch rates;mixtures;silicon dioxide;materials;semiconductor technology |
| 归属： |
德国 |
