| 标准号： |
YS/T 34.1-2011 |
| 英文名称： |
Method for chemical analysis of the high-purity arsenic.Inductive coupling plasma mass spectrum(ICP-MS)for determinating the concentration of elements in the high-purity arsenic |
| 中标分类： |
冶金>>半金属及半导体材料分析方法 |
| 发布日期： |
2011-12-20 |
| 发布单位： |
CN-YS |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2012-07-01 |
| 确认日期： |
2017-05-12 |
| ICS分类： |
金属材料化学分析>>金属材料化学分析 |
| 起草单位/标准公告： |
峨眉半导体材料厂;峨眉山嘉美高纯材料有限公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
8P.;A4 |
| 附注： |
根据中华人民共和国工业和信息化部公告2017年第23号,本标准继续有效。 |
| 被代替标准： |
YS/T 34.1-1992;YS/T 34.2-1992 |
| 内容提要（CN）： |
高纯砷;化学分析;电感耦合;等离子体;质谱法;杂质含量 |
| 归属： |
中国 |
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