| 标准分类 Standards |
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| 中文名称：电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 |
| 标准号:YS/T 1025-2015 |
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| 标准号： |
YS/T 1025-2015 |
| 英文名称： |
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film |
| 中标分类： |
冶金>>稀有高熔点金属及其合金 |
| 发布日期： |
2015-04-30 |
| 发布单位： |
CN-YS |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2015-10-01 |
| 确认日期： |
2017-05-12 |
| ICS分类： |
其他有色金属产品>>其他有色金属产品 |
| 起草单位/标准公告： |
宁波江丰电子材料股份有限公司;有研亿金新材料有限公司;北京天龙钨钼科技股份有限公司;株洲凯特实业有限公司;西安方科新材料科技有限公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
11P.;A4 |
| 附注： |
根据中华人民共和国工业和信息化部公告2017年第23号,本标准继续有效。 |
| 引用标准： |
GB/T 1031;GB/T 1804;GB/T 3850;GB/T 4324.23;GB/T 4324.25;GB/T 4324.26;GB/T 4324.27;GB/T 6394;GB/T 8651;YS/T 837;YS/T 900;YS/T 901 |
| 归属： |
中国 |
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下载：“稀有高熔点金属及其合金”相关标准( 下载...)
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