| 标准分类 Standards |
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| 中文名称：用光学干涉仪测量反射薄膜残余应变的标准试验方法 |
| 标准号:ASTM E2245-2011(2018) |
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| 标准号： |
ASTM E2245-2011(2018) |
| 英文名称： |
Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer |
| 中标分类： |
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| 发布日期： |
2011 |
| 发布单位： |
US-ASTM |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 确认日期： |
2018 |
| ICS分类： |
相纸、胶卷和暗盒>>相纸、胶卷和暗盒 |
| 起草单位/标准公告： |
E08.05 |
| ***： |
Test |
| 页数： |
25P.;A4 |
| 内容提要（EN）： |
cantilevers; combined standard uncertainty; fixed-fixed beams; interferometry; length measurements; microelectromechanical systems; MEMS; polysilicon; residual strain; round robin; stiction; strain gradient; test structure; |
| 归属： |
美国 |
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