| 标准号： |
GB/T 14144-2009 |
| 英文名称： |
Testing method for determination of radial interstitial oxygen variation in silicon |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料综合 |
| 发布日期： |
2009-10-30 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2010-06-01 |
| ICS分类： |
半导体材料>>半导体材料 |
| 起草单位/标准公告： |
峨嵋半导体材料厂 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
9P.;A4 |
| 被代替标准： |
GB/T 14144-1993 |
| 引用标准： |
GB/T 1557-2006;GB/T 14264-2009 |
| 采用关系： |
SEMI MF 1188-1105,MOD |
| 内容提要（CN）： |
硅;晶体;含量测定;间隙;氧;半导体 |
| 内容提要（EN）： |
SILICON;SILICONE;CRYSTALS;CONTENT DETERMINATION;CONTENT DETERMINATIONS;DETERMINATION OF CONTENT;CLEARANCES;BACKLASHES;CLEARANCE;OXYGEN |
| 归属： |
中国 |
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