| 标准号： |
GB/T 26065-2010 |
| 英文名称： |
Specification for polished test silicon wafers |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料综合 |
| 发布日期： |
2011-01-10 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2011-10-01 |
| ICS分类： |
半导体材料>>半导体材料 |
| 起草单位/标准公告： |
宁波立立电子股份有限公司;杭州海纳半导体有限公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
17P.;A4 |
| 引用标准： |
GB/T 1550;GB/T 1554;GB/T 1555;GB/T 1557;GB/T 2828.1;GB/T 4058;GB/T 6616;GB/T 6618;GB/T 6619;GB/T 6620;GB/T 6621;GB/T 6624;GB/T 11073;GB/T 12964;GB/T 13387;GB/T 13388;GB/T 14140;GB/T 14264;YS/T 26;SEMI 24;ASTM F1526 |
| 内容提要（CN）： |
硅;晶体;晶体(电子);抛光;试验 |
| 内容提要（EN）： |
SILICON;SILICONE;CRYSTALS;CRYSTALS (ELECTRONIC);POLISHING;EXAMINATION;TESTING;TESTS;TEST;TRIALS;REFRACTORY PRODUCTS;CRUDE OILS;DEPOSIT;bristles |
| 归属： |
中国 |
