| 标准号： |
DIN 50453-1-1990 |
| 英文名称： |
Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium monocrystals; gravimetric method |
| 中标分类： |
冶金>>元素半导体材料 |
| 发布日期： |
1990-10 |
| 发布单位： |
DE-DIN |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
0>>0 |
| 正文语言： |
德语 |
| 原文名称： |
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der ?tzraten von ?tzmischungen; Silicium-Einkristalle; Gravimetrisches Verfahren |
| 页数： |
3P.;A4 |
| 内容提要（CN）： |
硅;衬底(绝缘);重量分析法;单晶;重量分析;材料;快速方法;腐蚀混合物;腐蚀速度;试验;蚀刻;半导体工艺;混合物;材料试验 |
| 内容提要（EN）： |
rapid method;gravimetric analysis;materials;testing;materials testing;substrates (insulating);gravimetry;single crystal;etching;etch mixtures;etch rates;mixtures;semiconductor technology;silicon |
| 归属： |
德国 |
