| 标准号： |
DIN 50455-1-2009 |
| 英文名称： |
Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods |
| 中标分类： |
冶金>>半金属及半导体材料分析方法 |
| 发布日期： |
2009-10 |
| 发布单位： |
DE-DIN |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
半导体材料>>半导体材料 |
| 正文语言： |
德语 |
| 原文名称： |
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren |
| 页数： |
8P.;A4 |
| 被代替标准： |
DIN 50455-1-2008;DIN 50455-1-1991 |
| 引用标准： |
EN ISO 14644-1 |
| 内容提要（EN）： |
Checking equipment;Chemicals;Coating thickness;Cover coats;Electronic engineering;Inspection;Materials;Materials testing;Measurement;Measuring techniques;Optical measurement;Photoresists;Properties;Semiconductor technology;Silicon slices;Testing;Thickness;Varnishes |
| 归属： |
德国 |
