| 标准号： |
DIN 50455-2-1999 |
| 英文名称： |
Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料综合 |
| 发布日期： |
1999-11 |
| 发布单位： |
DE-DIN |
| 标准状态： |
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| ICS分类： |
半导体材料>>半导体材料 |
| 正文语言： |
德语 |
| 原文名称： |
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken |
| 页数： |
4P.;A4 |
| 内容提要（CN）： |
测量规程;清漆;半导体工艺;材料试验;测量;光蚀;定义;试验;特性;光学测量;材料;检验;测量技术;光敏材料;化合物;感光度 |
| 内容提要（EN）： |
properties;photoresists;light-sensitized materials;chemicals;optical measurement;testing;measurement;sensitivity to lights;definition;determination procedures;varnishes;materials;materials testing;measuring techniques;inspection;semiconductor technology |
| 归属： |
德国 |
